捷佳偉創(chuàng)掩膜噴墨打印設(shè)備交付頭部晶硅企業(yè) 焦點(diǎn)熱聞
2026-06-29 18:56:59 來源:第一財(cái)經(jīng)
(資料圖片僅供參考)
近日，捷佳偉創(chuàng)自主研發(fā)的專用高精度掩膜噴墨打印設(shè)備正式交付國內(nèi)頭部晶硅光伏企業(yè)。該設(shè)備專為BC電池背面Poly層圖形化工藝定制，替代傳統(tǒng)激光開槽、干膜光刻方案，實(shí)現(xiàn)BC電池鈍化層精細(xì)化圖形化低成本量產(chǎn)。
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